MFC330 熱式氣體質量流量計，微小氣體流量控制器
MFM / MFC330 系列氣體質量流量計/控制器, 其結構包含毛細管柱式流量傳感器、旁路分流系統(tǒng)、高精度比例閥和控制系統(tǒng)。
被測氣體進入后，先通過傳感器和旁路分流系統(tǒng)。由傳感器實時測量氣體流量、高精度比例閥動態(tài)響應快速調節(jié)氣體流量至設定值。測量與調節(jié)流量的閉環(huán)結構，即使環(huán)境溫度變化或進出口氣壓波動，MFC330依然能夠保持穩(wěn)定的流量控制。

產(chǎn)品型號：mfc330

更新時間：2024-12-31

廠商性質：生產(chǎn)廠家

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流量計

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產(chǎn)品介紹

MFC330微小氣體流量控制器

MFM / MFC330 系列氣體質量流量計/控制器, 其結構包含毛細管柱式流量傳感器、旁路分流系統(tǒng)、高精度比例閥和控制系統(tǒng)。

被測氣體進入后，先通過傳感器和旁路分流系統(tǒng)。由傳感器實時測量氣體流量、高精度比例閥動態(tài)響應快速調節(jié)氣體流量至設定值。測量與調節(jié)流量的閉環(huán)結構，即使環(huán)境溫度變化或進出口氣壓波動，MFC330依然能夠保持穩(wěn)定的流量控制。

介質要求 Applicable media	潔凈干燥氣體 Clean, dry gases
氣體種類 Gas type	98+氣體可選 Available for 98+ types of gas
量程 Full Scale（N2 equivalent）	0-2, 10, 20, 50, 100, 300, 500 sccm；0-1, 2, 5, 10, 20, 30 slpm
測量范圍measurement range	0.5%F.S. (1:200)
控制范圍 Control range	1% - 1 00% F.S. (1:100)
準確度 Accuracy	標準 Standard：±1% F.S. 高精度High Performance：±0.5%
重復精度Repeatability	±0.2% F.S.
線性度Linearity	±0.2% F.S.
控制響應時間 Settling time (in control)	<3秒
預熱時間 Warm-up time	5 min (T95), 30分鐘 30min for optimum accuracy
閥門Valve function	常閉式 Normally Closed
泄露率 Leak integrity	1*10-8 Pa·m3/sec He

機械特性 MECHANICAL
工作壓力 Maximum pressure	3 MPa (30bar）
工作壓差范圍 Operating differential pressure	0 ~ 1 MPa
工作溫度范圍Operating temperature range	-20 ~ 65℃ (環(huán)境和氣體 ambient and gas)
濕度范圍 Relative humidity range	0 ~ 98% 無凝露 No-condensing
氣路接頭類型Process connections	卡套,、VCR、快插、快擰 (可選) (Push-in fitting, Push-on fitting, Compression fitting, VCR optional)
氣體接觸材質Material	氟橡膠、304/316不銹鋼 (FKM, 300-series Stainless steel)
密封材質Seals	氟橡膠 FKM
防護等級 Ingress protection (housing)	IP40
安裝方式 Mounting	水平安裝方向校準 Calibrated in horizontal mounting orientation
固定孔 Mounting holes	M4 5mm
重量 Weight	0.96 kg

我公司自主研發(fā)的 MFC330 微小氣體流量控制器（以下簡稱 MFC330），主要用于對氣體的質量流量進行精確測量和控制。采用優(yōu)質的核心部件、高性能的處理器芯片、智能的控制算法及簡潔直觀的操作界面，使氣體流量控制更加精準、穩(wěn)定和簡便，內置溫度和壓力傳感器，采集氣路溫度、壓力值外，進一步對氣體流量控制進行溫壓補償；支持多種通訊協(xié)議，可以方便高效的與電腦、PLC、工業(yè)觸摸屏、單片機等進行通訊；具有多氣體測量，高精度，高穩(wěn)定性，極低零漂等特性。

MFC330在半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學科、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領域的科研和生產(chǎn)中有著重要的應用。其典型的應用場合包括: 電子工藝設備, 如擴散、氧化、外延、CVD、等離子刻蝕、濺射、離子注入; 以及鍍膜設備、光纖熔煉、微反應裝置、混氣配氣系統(tǒng)、毛細管測量、氣相色譜儀及其它分析儀器。

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